Sputtering Sib

Zirkonyòm Rotary Sputtering objektif

Zirkonyòm Rotary Sputtering Targets Deskripsyon Zirkonyòm Rotary Sputtering Targets yo te fè nan materyèl zirkonyòm pite segondè apre yon seri de pwosesis, ak yon gwosè espesifik materyèl zirkonyòm

Ajoute nan ankèt
Zirkonyòm 702 Planar sib

Zirkonyòm 702 Planar Target Deskripsyon Zikonyòm se yon eleman metalik ak ekselan rezistans korozyon, gwo pwen k ap fonn ak bon pwopriyete mekanik, ki fè li itil nan yon varyete aplikasyon ki gen

Ajoute nan ankèt
Zikonyòm 702 Round Sib

Zirkonyòm 702 Round Target Deskripsyon Zikonyòm se yon briyan gri-blan metal tranzisyon fò lajman ki itilize nan endistri nikleyè a ak ayewospasyal. Zirkonyòm 702 Round Target souvan fèt ak materyèl

Ajoute nan ankèt
99.95% Zirkonyòm Sputter objektif

99.95% Zikonyòm Sputter Objektif Deskripsyon Magnetron sputtering se yon nouvo metòd kouch vapè fizik, ki sèvi ak sistèm zam elèktron pou emèt elektwon epi konsantre sou materyèl la dwe plake, se

Ajoute nan ankèt
Objektif Titàn pite segondè

High Purity Titanium Targets Deskripsyon Titàn se yon metal refractory paramayetik ak severite fò ak gwo fòs, espesyalman nan yon anviwònman oksijèn-gratis. Pou sib, pi wo pite chimik metal la, se pi

Ajoute nan ankèt
Segondè Pite Chromium Sputter Sib

High Purity Chromium Sputter Target Deskripsyon Chromium se yon metal tranzisyon asye-gri, klere, difisil ak frajil. Se High Purity Chromium Sputter Target jeneralman pwodui lè l sèvi avèk k ap fonn

Ajoute nan ankèt
99.5% Sib Sputtering Bor

99.5% Bor Sputtering Objektif Deskripsyon Objektif kouch la se yon sous sputtering ki fòme divès fim fonksyonèl sou substra a pa sputtering nan kondisyon pwosesis apwopriye nan magnetron sputtering,

Ajoute nan ankèt
Molybdène (Mo) Sputtering objektif

Molybdène (Mo) Sputtering Objektif Deskripsyon Kòm yon dènye kri teknoloji preparasyon materyèl fim mens, sputtering gen de karakteristik: gwo vitès ak ultra-ba tanperati. Molybdène (Mo) Sputtering

Ajoute nan ankèt
Titàn Metal Sib

Titanium Metal Target Deskripsyon Titanium Metal Target se sitou manifaktire pa metòd la refwadisman refwadisman elèktron. Li gen gwo pite, segondè fòs espesifik, bon severite nan yon anviwònman

Ajoute nan ankèt
Nikèl Metal Sputtering objektif

Nikèl Metal Sputtering Objektif Deskripsyon Nan endistri, nikèl se souvan itilize nan preparasyon alyaj, pwodiksyon batri, ak kòm yon katalis. Espesyalman nan jaden an nan materyèl sib, nikèl se

Ajoute nan ankèt
Chromium Metal Sputter objektif

Chromium Metal Sputter Targets Deskripsyon Chromium gen yon gwo pwen k ap fonn ak bon rezistans oksidasyon, sa ki pèmèt sib la chromium rete estab nan anviwònman tanperati ki wo. Anplis de sa, depo

Ajoute nan ankèt
TiAl Titanium Alloy Sputtering sib

TiAl Titanium Alloy Sputtering sib Deskripsyon Sputtering sib refere a matyè premyè yo itilize nan pwosesis la depo sputtering. Li refere a pwosesis la nan ki atòm yo ekspilse nan sib la solid akòz

Ajoute nan ankèt

Nou se byen li te ye kòm youn nan dirijan manifaktirè sib sputtering ak founisè nan Lachin. Si w pral achte bon jan kalite sib sputtering ak pri konpetitif, akeyi yo ka resevwa sitasyon pi ba nan faktori nou an. Epitou, sèvis Customized ki disponib.

(0/10)