Zirkonyòm Rotary Sputtering objektif
Zirkonyòm Rotary Sputtering Targets Deskripsyon
Zirkonyòm Rotary Sputtering Targets yo te fè nan materyèl zirkonyòm pite segondè apre yon seri de pwosesis, ak yon gwosè espesifik materyèl zirkonyòm pite segondè ak fòm, pwosesis la itilize se: Se materyèl la sib premye mete nan yon chanm vakyòm, ak Lè sa a, bonbade ak segondè- iyon enèji oswa elektwon, pou atòm oswa molekil yo ekspilse nan sifas sib la epi depoze sou sifas substra a. Zirkonyòm Rotary Sputtering Targets gen karakteristik pite segondè, bon pèfòmans pwosesis, vitès kouch vit ak kalite siperyè, rezistans korozyon, rezistans tanperati ki wo, rezistans mete, lavi sèvis long, elatriye Li ka bay trè bon rezistans korozyon ak tanperati ki wo ak ba. pwoteksyon kouch tanperati pou pati enpòtan yo nan endistri chimik oswa endistri ayewospasyal. Li kapab tou itilize nan gwo zòn endistri kouch vè ak endistri jeni elektwonik.
Yo nan lòd yo pwolonje lavi sa a ki sèvis nan sib zirkonyòm, kle a se asire kondisyon ki apwopriye yo pandan depo ak itilizasyon. Pandan depo, sib la ta dwe kenbe nan yon anviwònman sèk, tanperati ki estab pou fè pou evite oksidasyon oswa domaj estriktirèl akòz imidite ak fluctuations tanperati. Pandan itilizasyon, li enpòtan pou asire ke sib la menm chire pou evite konsomasyon lokal twòp. Sa a gen ladann enspeksyon regilye nan sib la pou mete ak entegrite estriktirèl, osi byen ke mezi ajisteman apwopriye.
Zikonyòm Rotary Sputtering Sib Espesifikasyon:
|
Materyèl |
Zr702 |
|
Pite |
99.6% |
|
Dansite |
6.52g/cm3 |
|
Pwosesis yo |
Cho izostatik peze, SINTERING, Fizyon Vacuum, Forge, Machining |
|
enpè |
20mm{{1}mm |
|
Epesè |
2-20m |
|
Sifas |
Poli, klere, netwayaj chimik, oksid nwa, elatriye. |
|
Estanda |
ASTM B550% 2CASTM B551% 2cGB |
|
Delivre tan |
Apeprè 25 jou |
|
Sètifikasyon |
ISO9001 |
Zikonyòm Rotary Sputtering Sib Foto:


Baj popilè: zirkonyòm rotary sputtering objektif, Swèd, manifaktirè, faktori, Customized, wholesale, pri, sitasyon, pou vann
Voye rechèch


