Mo Sputtering Targets

Mo Sputtering Targets Model pa fè sa. :Mo Sputtering Objektif Creole: ASTM, GB Sifas: Poli, Cynomolgus Aplikasyon: Pite kouch sifas: 99.95 pousan minimòm Dansite: 10.2 g / cm3 Aplikasyon: kouch vakyòm, spesifikasyon semi-conducteurs: ISO9001: 2015 Objektif nou se aplike nan semi-conducteurs, .. .

Voye rechèch

Mo Sputtering Targets

Modèl pa fè sa. :Mo Sputtering Sib

Estanda: ASTM, GB

Sifas: poli, Cynomolgus

Aplikasyon: sifas kouch

Pite: 99.95 pousan minimòm

Dansite: 10.2 g/cm3

Aplikasyon: kouch vakyòm, semi-conducteurs

Spesifikasyon: ISO9001: 2015

Mo Sputtering Targets Specification

Non pwodwi	Mo1 Molybdenum Pri molybdène sib
Materyèl	Materyèl kri Molybdène
Koulè	Orijinal
Pite	Mo>99.95 pousan
Espesifikasyon	Dia.({{0}}mm) x epesè (0.1-100)mm ;Customize nan desen kliyan yo
Tretman sifas yo	Polisaj, woule
Aplikasyon	Pou manifakti LCD, manyen ekran, selil solè, elatriye

Mo Sputtering Targets Foto:

PVD Sputtering Targets (3)

PVD Sputtering Targets (4)

Objektif nou se aplike nan semi-conducteurs, optik, ekspozisyon kristal likid, sikui entegre, endistri-wo fen, kouch vakyòm, enèji solè, enèji vèt, ak jaden vè otomobil.

Baj popilè: mo sputtering objektif, Swèd, manifaktirè, faktori, Customized, wholesale, pri, sitasyon, pou vann