Tungstène sikilè Sputtering objektif
Tungstène sikilè Sputtering Objektif Deskripsyon
Tengstèn, kòm yon materyèl sib souvan itilize, jwe yon wòl kle nan tib radyografi. Tanperati fonksyònman katod la se sou 2000K. Elektwon ki emèt yo akselere pa dè dizèn de milye a dè santèn de milye vòlt ak Lè sa a, frape sifas sib la, kidonk jenere reyon X trè penetrasyon. Tungstène sib sikilè Sputtering yo jeneralman fèt pa k ap fonn vakyòm ak peze cho, ak Lè sa a, woule, koupe ak rkwit. Yo ka lajman itilize nan detektè defo X-ray, endistri ekleraj, pwosesis kouch vakyòm, elektwonik ak endistri vakyòm elektrik, perçage lwil oliv, fusion metal, ayewospasyal ak enspeksyon D 'medikal.
Avantaj nan sib sikilè tengstèn Sputtering:
1 Segondè pwen k ap fonn: Pwen k ap fonn nan tengstèn metal la se yon wo 3410 degre, ki ka kenbe tèt ak bonbadman gwo enèji gwo elèktron san yo pa fonn fasil.
2 Segondè dansite: Li ka fè machin nan radyografi pwodwi pi wo pwodiksyon enèji ak amelyore kalite D '.
3 Rezistans tanperati ki wo ak bon pèfòmans chalè dissipation: Li pa fasil yo dwe korode nan anviwònman tanperati ki wo, epi li ka byen vit gaye chalè a pwodwi pou fè pou evite domaj ekipman ki te koze pa surchof.
4 Ekselan rezistans korozyon, rezistans ranpe, ak rezistans mete
5 Mwens backscatter: Metal tungstène pwodui mwens backscatter lè reyon X fè kolizyon, sa ki ede diminye bri background ak amelyore klète D.
Tungstène sikilè Sputtering Objektif Espesifikasyon:
|
Klas |
W1,W2 |
|
Pite |
Pi gran pase oswa egal a 95% |
|
Dyamèt |
0.25mm-100mm |
|
Epesè |
1-12mm |
|
Pwen k ap fonn |
3410 degre |
|
Dansite |
19.3g/cm3 |
|
Sifas |
Poli, Terre |
|
Tan livrezon |
25 jou |
|
Estanda |
ASTM, GB |
|
Sètifikasyon |
ISO9001 |
Tungstène sikilè Sputtering Sib Foto:


Baj popilè: tungstène sikilè sib sputtering, Swèd, manifaktirè, faktori, Customized, wholesale, pri, sitasyon, pou vann
Voye rechèch


