Sib Sputter wonn bor
Bor Round Sputter Target Deskripsyon
Boron Round Sputter Target se yon materyèl ki itilize pou preparasyon fim. Li fèt ak materyèl borid nan metaliji poud (peze metal poud anba tanperati ki wo ak presyon ki wo) oswa k ap fonn vakyòm (fonn li pa chofaj arc nan yon chanm vakyòm). Lè sa a, solidifye sou sib la), li gen pwopriyete ekselan tankou pèfòmans pwosesis segondè, segondè estabilite tèmik, dansite segondè, bon rezistans korozyon, segondè fòs mekanik, bon jan kalite kouch segondè, rezistans mete, ak lavi sèvis long. Boron Round Sputter Target se sitou itilize pou prepare divès fim fonksyonèl, tankou kouch difisil, fim mayetik, fim optik, fim anti-reflektif, elatriye, pou sputtering sou ekipman elektwonik, chips semi-conducteurs, selil solè, aparèy optik ak lòt segondè-. fen dekorasyon Pwodwi pou elatriye Si sa nesesè, tanpri ou lib pou kontakte nou pa imel.
Espesifikasyon Sib Boron Round Sputter:
|
Materyèl |
Bor (B) |
|
Teknik |
Cho izostatik peze, rafineman grenn, SINTERING, Forge, Recuit |
|
Pite |
99.5%,99.9%, 99.99% |
|
Dyamèt |
Mwens pase oswa egal a 480mm |
|
Epesè |
Pi gran pase oswa egal a 1mm |
|
Dansite |
2.34g/cm3 |
|
Pwen k ap fonn |
2300 degre |
|
Fòm |
Disk, Plak, Sib Kolòn, Sib Etap, Custom-made |
|
Sifas |
Poli, netwayaj alkali, fanm k'ap pile, oksid nwa, elatriye. |
|
Sètifikasyon |
ISO9001 |
Foto sib bore wonn:
Baj popilè: bor wonn sputter sib, Swèd, manifaktirè, faktori, Customized, wholesale, pri, sitasyon, pou vann
Voye rechèch
