Objektif la sputtering refere a materyèl la anvan tout koreksyon yo itilize nan pwosesis la depo sputtering, ki refere a pwosesis la nan ekspilsyon atòm nan sib la solid akòz bonbadman an nan sib la pa patikil ki gen gwo enèji, ak fonksyon prensipal li se depoze yon fim mens. sou pyès travay la. Nan fen mwa fevriye, nou te delivre bon jan kalite Titàn Aliminyòm Sputtering Targets ki te pwodwi pa nou bay kliyan Alman nou yo san danje epi byen vit pa eksprime entènasyonal. Kliyan Alman yo te toujou satisfè ak pwodwi metal nou bay yo epi yo vle kominike avèk nou sou yon nivo teknik. Pri ak gwosè espesifikasyon pwodwi yo tou satisfè kondisyon yo. Titàn Aliminyòm Sputtering Sib yo ka apwovizyone ak substrats kwiv oswa trete nan lòt substrats metal si sa nesesè.
Titàn aliminyòm alyaj Sputtering sib se yon sib trè souvan itilize, ki ka pwodwi pa metòd Distribisyon ak metòd izostatik cho peze. Li gen kalite siperyè, pite segondè, estrikti inifòm, lavi sèvis long, bon rezistans korozyon, segondè konduktiviti tèmik ak pri konpetitif ak lòt avantaj. Titàn aliminyòm sib Sputtering yo pi souvan itilize nan kouch dekoratif. Yo ka depoze fim ak bon dite, segondè klète, rezistans korozyon, rezistans oksidasyon, ak rezistans manyak. Yo lajman itilize nan penti zouti pyès ki nan konpitè, kouch dekoratif, ak kouch ekspozisyon plat. kouch, PVD ak CVD pwosesis, konpozan semi-conducteurs, ak divès kalite machin magnetron sputtering ak machin ion plating. FANMETL ka bay touAliminyòm Silisyòm Alloy Sputtering Sib, Nikèl Sputtering Sibak Chromium Sputtering Target ak lòt pwodwi metal sputtering sib.
