Copper Sputtering Sib

Copper Sputtering Sib Deskripsyon & Aplikasyon

Objektif Sputtering yo se yon klas espesyal nan materyèl ki sitou itilize nan kouch fim mens ak endistri kouch vakyòm. Copper Sputtering Target se yon pwodwi nan metal kwiv ki pite segondè trete pa yon seri de pwosesis (tankou extrusion, desen, tretman chalè ak machin, elatriye), e li gen anpil pwopriyete ekselan, tankou pite segondè, pri ki ba, elektrik ak konduktiviti tèmik Bonjan, efikasite pwodiksyon segondè ak lavi sèvis long. Sib sputtering Copper ka divize an sib sputtering kwiv plat (wonn oswa kare) ak wotasyon sib sputtering kòb kwiv mete (anjeneral tubulaires), ak estanda gwosè a detèmine selon aplikasyon aktyèl oswa kondisyon kliyan. Copper Sputtering Targets se pi pito materyèl sputtering, apwopriye pou DC bipolè sputtering, tripolè sputtering, quadrupole sputtering, ion sputtering oswa magnetron sputtering, elatriye, epi yo ka itilize yo rad fim meditativ, fim kondiktè, fim semi-conducteurs, fim dekoratif entegre. sikui ak ekspozisyon, elatriye.

Copper Sputtering SibEspesifikasyon:

Foto sib Copper Sputtering:

Baj popilè: sib sputtering kòb kwiv mete, Swèd, manifaktirè, faktori, Customized, wholesale, pri, sitasyon, pou vann